在集成电路国产化攻坚的关键阶段，致真精密设备有限公司（以下简称“致真设备”）迎来双里程碑时刻：公司成立四周年之际，致真精密设备（杭州）有限公司正式开业。五十余位产、学、研、投代表齐聚杭州，共同见证国产高端半导体装备企业长三角战略布局的跨越式突破。依托国际领先的0.1nm级薄膜沉积控制技术与完全自主知识产权的设备架构。
（开业现场图）
国之使命：从实验室突围到产业亮剑
为将国之重器铸为产业利器，2021年5月14日，合肥致真精密设备有限公司应运而生。开启从原理样机研制、实验室设备开发到量产机型落地的三级跨越。四年间，产品线快速覆盖4-12英寸晶圆制造工艺，在航天芯片、量子器件、新型存储等领域累计替代进口设备超百台，成为国家重点工程不可替代的"装备基石"。
目前，致真设备已形成产业级薄膜制备设备、科研级薄膜制备设备、真空传输平台、超高真空零配件四大产品矩阵。
其中，致真设备自主研发生产的产业级薄膜制备设备，主要包含一批针对企业中试线和产线研发的磁控溅射设备。该系列设备性能高、效率高、成本低、稳定可靠，可实现8-12英寸基底上纳米级材料的生产制备需求，广泛应用于半导体晶圆制造、新型存储器、新型显示、新能源等领域，能够有效满足生产级和量产级的薄膜制备需求。
为进一步强化产业级设备体系的实力，致真设备12英寸装备杭州生产基地已正式投产。该基地将显著提升公司在大尺寸、高产能薄膜沉积装备领域的研发与制造能力。目前，公司研发和生产的面向新型存储器制备的12英寸薄膜沉积系统，已成功导入国内头部半导体生产企业，用于量产线关键膜层沉积。这不仅验证了其技术实力，也满足了国内高端芯片制造对先进薄膜制备装备的迫切需求。
（MSI-400生产型磁控溅射设备）
致真设备自主研发生产的科研级薄膜制备设备，主要应用于4英寸基底镀膜，服务于高校实验室、科研院所及企业研发中心的新材料开发与工艺验证。产品线涵盖磁控溅射设备、电子束蒸发设备、分子束外延设备和脉冲激光沉积设备等，可满足量子材料、二维材料、超导薄膜、光电功能层等前沿领域的精密镀膜需求，为新型器件原型开发、小批量试制及工艺迭代提供高效灵活的研发平台。
杭州引擎：打造自主可控技术生态圈
此次开业的杭州子公司，被致真设备董事长程厚义定位为“长三角12英寸集成电路装备创新引擎”。他在开业仪式上宣告：“选择落户杭州，是公司战略布局的重要一步。杭州公司的成立，标志着我们12英寸产业化设备的研制迈向新高地。将进一步提升致真设备在华东地区的服务能力与技术支撑，深化与杭州北航国新院、自旋芯片与技术全国重点实验室，以及杭州本地合作伙伴的协同创新，为客户提供更高效、更完备的解决方案。”
自旋芯片与技术全国重点实验室领导在致辞中表示：“四年时间，我见证了致真设备从4英寸科研级磁控溅射设备到12英寸产业级磁控溅射设备的突破，取得了令人瞩目的成就。此次杭州公司的成立，不仅是致真设备布局12英寸产业化设备的重要一步，更是杭州乃至浙江省科技创新与产业升级的又一里程碑。未来在杭州市政府、行业伙伴的鼎力支持下，致真设备杭州公司必将成为产学研合作的典范，为区域经济高质量发展注入强劲动能。”
致真之声：以中国精度刻写产业未来
（现场调研图）
站在"两个一百年"奋斗目标的历史交汇点，致真设备以杭州公司启航为新起点，正在书写中国半导体装备产业的新篇章。未来，依托长三角世界级产业集群优势，致真设备将打造具有全球竞争力的薄膜沉积技术高地，实现关键装备的完全自主可控。通过构建"产学研用"深度融合的创新生态，致真设备正在走出一条从跟跑、并跑到领跑的跨越式发展之路，为全球半导体产业变革贡献中国智慧、提供中国方案、展现中国力量！
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